Klasická optická a elektronová litografie zůstávají hlavní technologie v polovodičovém průmyslu ve výrobě i při současné šířce čáry 100 nm. Nová technologie nanotisku do polymerů již pracuje s rozlišením 10 nm. Positivní rezisty pro pokročilou výrobu masek s elektronovými vysokoenergetickými svazky tak musí prodělat zásadní změny. Organické křemíkové nanostrukturní polymerní materiály představují novou skupinu elektronicky aktivních materiálů. Cílem projektu je výzkum procesu vedoucích k formování metastabilních stavů v organických křemíkových polymerech jako jsou slabé vazby, jejich konverze na přerušené vazby a ovlivnění těchto procesů jak výběrem materiálů, tak i aktivních přísad do aktivních křemíkových polymerů. Metodiky, uplatněné v projektu, budou fotoelektronové spektroskopie, efúsní spektroskopie a foto a katodoluminiscence, podporované kvantově chemickými výpočty pro pochopení mikrofyzikálních jevů vedoucích k metastabilitě a degradaci.
|
