Rentgenové/XUV lasery různých typů, emitujících ve spektrálním oboru 10-50 nm, budou využity k vytváření a zkoumání nanometrových struktur na površích pevných látek.
(a) Budou implementovány nové kompaktní vysokorepetiční zdroje koherentního krátkovlnného záření, s využitím nynějších zkušeností s unikátním laserem na vlnové délce 21 nm, provozovaným uchazečem tohoto projektu. To umožní zkoumat interakci XUV/rtg záření s pevnou látkou v oblastech dosud neprozkoumaných kombinací energií fotonů, délek pulsů, fluencí a intenzit.
(b) Budou nalezeny podmínky, při nichž dochází k efektivní ablaci materiálu ozařovaného rtg/XUV lasery, při jeho minimálním tepelném poškození.
(c) Budou zkoumány a optimalizovány podmínky pro přímé nanostrukturování materiálů, a to jak interferometrické, tak pomocí masky.
(d) Interferometrické, reflektometrické a holografické techniky s XUV/rtg lasery umožní diagnostikovat trvalé i přechodné nanometrové změny na površích a v tenkých vrstvách vybraných materiálů.
|
