Elektronová litografie
Laboratoř elektronové litografie v ÚPT se dlouhodobě zabývá problematikou a studiem technologických principů vytváření struktur submikrometrových rozměrů v různých materiálech pevné fáze. Výsledky prací laboratoře jsou využívány odbornými, vědeckými a vysokoškolskými pracovišti a v některých případech i soukromými firmami. V posledním období byly práce v laboratoři zaměřeny na:
- technologie přípravy struktur pro fázové difraktivní optické elementy,
- průmyslové využití elektronové litografie pro tzv. syntetické, respektive počítačem generované hologramy.
Těmto aplikacím předcházela nutná modernizace používaného zařízení – elektronového litografu BS600, jehož fyzikální koncepce byla vypracována a vyvinuta v ÚPT v druhé polovině sedmdesátých let minulého století na úrovni, která po provedených zlepšeních stále představuje světovou špičku.
Téma: Elektronová litografie
Elektronový litograf s tvarovaným svazkem (Tesla BS 600+) umožňuje rychlý zápis (expozici) obrazové informace do tenké vrstvy elektronového rezistu na křemíkových nebo skleněných podložkách ve velmi vysokém rozlišení. Základní krok námi provozovaného zařízení je 50 nm, realizovatelná hustota čar je 2.000 čar/mm. Vyvoláním exponované vrstvy rezistu se vytváří planární rezistová maska, přes kterou je možné opracovat povrch podložky (substrátu) nebo tenkou funkční vrstvu (zpravidla kov nebo dielektrikum) předem nanesenou na nosném substrátu.
Aplikace elektronové litografie:
- velkoplošné mikrostruktury pro difrakční optické elementy tvarující laserový svazek,
- submikrometrové difrakční struktury pro aplikace průmyslové holografie,
- struktury v tenkých vrstvách kovů a dielektrik na křemíkových podložkách pro biosenzory a vodivostní chemické senzory.
Vybrané výsledky výzkumu využívané průmyslovými partnery:
- Na základě technických podkladů dodaných zadavatelem bylo vytvořeno a předáno několik desítek vzorků velkoplošných difraktivních holografických struktur ve vrstvě polymerního elektronového rezistu.
- Podle požadavků zadavatele bylo vytvořeno a předáno několik kusů rozměrových normálů pro optickou a elektronovou mikroskopii. Přesnost normálů se expozicí kalibrovaného expozičního pole elektronového litografu odvozuje od laserových interferometrů. Normál obsahuje několik struktur, mezi nimi zpravidla měřítko, odměřovací mřížky a geometrické obrazce s popisem.
Kontakt: doc. Ing. Vladimír Kolařík, Ph.D.
E-mail: kolariq@isibrno.cz, tel:
+420 541 514 336
Podrobnější informace: http://www.isibrno.cz/teams/EBL
