Publikováno z Special technologies (http://ebt.isibrno.cz)

Domů > Obrázková galerie > Naprašování > Verze pro tisk

Typical normal incidence x-ray refraction dependence of the Mo/Si mirror deposited in our laboratory

Od iv
Vytvořeno 07.02.2010 - 00:02
Článek: 
Multivrstvy pro rentgenovou optiku [1]
Typical normal incidence x-ray refraction dependence of the Mo/Si mirror deposited in our laboratory
Copyright © 2010 Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i.
Zdrojové URL: http://ebt.isibrno.cz/node/629

Odkazy:
[1] http://ebt.isibrno.cz/RTGMultivrstvy