Vlastimil Jurka

Narozen:

1952, Praha

 

Vzdělání:

VŠCHT Praha, Fakulta chemické technologie
Chemická technologie kovů (1975)

 

Praxe:

1975-1982     Tesla Vrchlabí
Samostaný vývojový pracovník v technologii polovodičových součástek na bázi GaAsP a GaP:
fotolitografie, depozice kovů a jejich slitin, pouzdření, kapalná epitaxe na GaP, leptací procesy.

1982-1992     TESLA - Výzkumný ústav pro sdělovací techniku (Praha)
Výzkumný pracovník v  technologii integrovaných obvodů, vedoucí oddělení fotolitografie:
vývoj a výroba integrovaných obvodů CMOS, NMOS tranzistory, tlaková čidla, apod. (10-3 µm technologie).

1992-1998     ICM s.r.o. (Praha)

Provozní ředitel:
řízení provozu na výrobu čipů integrovaných obvodů, polovodičových diskrétních součástek a (solid-state) sensorů. Vypracovávání a realizace návrhů technologií pro detektory (detektory částic pro CERN, projekty ATLAS, ALICE ).
Návrh topologie (solid-state) detektorů, příprava dat pro generátor obrazců.

1998 -     Fyzikální ústav AVČR, Praha

Technologie specielních polovodičových struktur a součástek,
návrh a práce na výstavbě čistého pracoviště fotolitografie .


Aktualizace: 16.10.2000

 

ascii     english