Vyvinuli jsme novou metodu pro účinnou modifikaci povrchů (J. Appl. Phys. 105, 026105 (2009)), která spočívá v současné aplikaci XUV (21 nm) a NIR/Vis (820/410 nm) záření. Mechanismus duální akce spočívá v tom, že XUV fotony nejprve vygenerují volné nosiče náboje v transparentním dielektriku následkem čehož dojde k dramatickému zvýšení absorpce NIR/Vis záření, po kterém následuje expanze materiálu. Charakteristickým rysem je vytvoření nanopilířů v centru kráteru. Pozorovaný jev má využití pro řízené nanostrukturování povrchů s široce dostupným, vysokorepetičním XUV zdrojem. Celý text >>
