Fyzikální ústav Akademie věd ČR

FZÚ v médiích

21. STOLETÍ, 4.8.2011.

ČR na prahu skokového rozvoje laserové...

RESPEKT, 29.7.2011.

Pátrání po hypotetické částici zvané...

Český rozhlas Vltava, 29.7.2011.

Konference Hranice kvantové a...

WWW.CUNI.CZ , 29.7.2011.

Dvě stě předních světových fyziků se v...

Tenké vrstvy a nano-charakterizace [J. Kočka, A. Fejfar]

Hlavním zaměřením laboratoře je plazmochemická příprava nanostruktur a tenkých vrstev na bázi Si, zejména mikro- a nano-krystalického křemíku (μc-Si:H, nc-Si:H). Pro optimalizaci vlastností je nezbytná komplexní charakterizace jejich vlastností na makroskopické i nano-úrovni pomocí kombinovaných měření AFM. Významným cílem je využití těchto materiálů pro fotovoltaickou přeměnu sluneční energie.


www stránky: Tenké vrstvy a nano-charakterizace

Copyright © 2008-2010, Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.