Fyzikální ústav Akademie věd ČR

System for the deposition of thin films at atmospheric pressure

CZ 17139 U1, Úřad průmyslového vlastnictví, Zápis užitného vzoru ze dne 8. ledna 2007.
Solution comes under field of plasma-chemical multi-jet systems for realization of thin films deposition, in particular InxOy, SnOx and ZnO transparent conductive optical thin films (TCO), at atmospheric pressure.

Copyright © 2008-2010, Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.