Dosahování vakua s využitím nízkých teplot je založeno především na kryokondenzaci čerpaných plynů a par (N2, O2, H2O, atd.) na studeném povrchu kryopanelu. K chlazení kryopanelů je využíváno kapalného He, které má za normálního tlaku teplotu 4,2 K. Plyny, které nekondenzují na kryopanelu, jako jsou He a částečně H2, je možno zachycovat kryosorpcí. Kryosorpcí lze vytvořit monomolekulární vrstvu nekondenzovatelného plynu, což vyžaduje kryopanel o velmi velkém povrchu. Pro zvětšení povrchu se na chlazené kryopanely nanášejí částice aktivního uhlí nebo molekulových sít (zeolitů) s efektivním povrchem řádu až 103 m2/g. Skupina se zabývá měřením charakteristik aktivních sorbentů, např. čerpacích rychlostí a sorpční kapacity sorbentů pro různé plyny. Získané poznatky v oblasti kryočerpání vedly k realizaci dvou verzí malých heliových kryogenních vývěv lázňového typu s nízkým odparem helia (obr.kryovyveva KV4- Schéma héliové kryovývěvy KV4).

Vývěvy jsou určeny především k udržování a vylepšování vakua v dobře odplyněných a předčerpaných vakuových aparaturách v rozsahu tlaků 10-6 až 10-8 Pa (obr. kryovyveva _Nodus- Využití héliové kryovývěvy u vakuové aparatury Nodus)