Oddělení nízkoteplotního plazmatu se zabývá zejména přípravou tenkých vrstev plazmo-chemickými metodami a vývojem technologických postupů vedoucích k optimálnímu růstu studovaných vrstev. Kromě klasického magnetronového naprašování jsou využívány jak nízkotlaké procesy (zejména výboj v duté katodě) tak vysokotlaké procesy pracující za atmosférického tlaku (např. bariérový pochodňový výboj). Samozřejmostí je detailní diagnostika technologického plazmatu prováděná při většině experimentů, která umožňuje vysokou reprodukovatelnost depozičních procesů.
