Tým se zabývá výzkumem technologie mikrolitografie s využitím zápisu pomocí elektronového litografu. Naše činnost je zaměřena na přípravu struktur v tenkých vrstvách kovů a dielektrik na křemíkových podložkách pro různé typy snímačů. Pro optické aplikace vytváříme velkoplošné mikrostruktury pro tvarování laserového svazku a difrakční struktury pro aplikace v průmyslové holografii.

Nezbytnou součástí výzkumu je řešení software pro řízení expozice s ohledem na zpracovávání velkého objemu dat. Součástí řešení je i modelování a simulace pro optimalizaci parametrů vytvářených struktur a pro usnadnění jejich návrhu.

Elektronový litograf můžeme jednoduše charakterizovat jako zápisové zařízení s velmi vysokým rozlišením. (Pro srovnání můžeme říci, že má rozlišení asi tisíckrát lepší než kvalitní laserová tiskárna.) Jednou ze zajímavých oblastí aplikace jsou struktury pro tvarování světelného svazku. Ačkoliv vlastní jemnou strukturu nelze okem rozlišit, její projev při nasvícení světelným paprskem je dobře pozorovatelný.

Na několika příkladech se pokusíme vysvětlit, jak se projevuje ohyb světla na jednoduchých difrakčních strukturách. Mezi tyto příklady patří difrakční mřížky různých typů a obecné struktury. Jednotlivé obrázky mají podobné schéma. Pokusíme se znázornit světelné paprsky vycházející ze zdroje jednobarevného světla (v praxi to může být jednoduché laserové ukazovátko). Povrch jednotlivých struktur je velmi jemně modulován. Aby bylo možné dosáhnout zřetelného ohybu světla, musí být detaily difrakčních struktur velmi malé (přibližně tisícina milimetru, tedy jeden mikron). Pro vytváření tak jemných detailů je právě možné využít zařízení s vysokým rozlišením zápisu, v našem případě elektronový litograf.