Fyzikální ústav Akademie věd ČR

Chemical Identification of Single Atoms in Heterogeneous III–IV Chains on Si(100) Surface by Means of nc-AFM and DFT Calculations

M. Setvín1,2, P. Mutombo1, M. Ondráček1, Z. Majzik1, M. Švec1, V. Cháb1, I. Ošťádal2, P. Sobotík2 and P. Jelínek1

Prokázali jsme novou možnost chemického rozlišení jednotlivých atomů v nanostrukturách na površích polovodičů pomocí kombinace měření mikroskopem atomárních sil (AFM) a teoretických výpočtů metodou DFT. Navržená metoda pro přesné stanovení atomární a chemické struktury významně posouvá možnosti analýzy povrchů a nanostruktur. Má zásadní význam nejen pro pochopení základních procesů formování a stability polovodičových nanostruktur, ale také pro studium jejich chemických a fyzikálních vlastností. Právě chemické složení má velký dopad na transport náboje podél jednodimensionálních (1D) atomárních řetízků, které mohou být základními prvky v rozvíjející se nanoelektronice.

Studovali jsme chemickou identitu jednotlivých atomů ve směsných In-Sn řetízcích, vyrostlých na Si(100)-(2 ×1) povrchu při pokojové teplotě pomocí měření dynamickým AFM a DFT výpočtů. Prokázali jsme, že chemická identita každého atomu v řetízku může být určena pomocí měření krátko-dosahových sil, působících mezi hrotem AFM a atomem. Touto metodou jsme odhalili začlenění atomů Si ze substrátu do kovových řetízků, která byla doposud zcela ignorována a má zásadní význam na formování a stabilitu 1D řetízků. Analýza měřených a vypočtených krátko-dosahových sil naznačuje dokonce možnost rozlišení různých chemických stavů jednotlivých atomů v řetízku, ovlivněných jejich hybridizací.

Obrázek řetízků Sn-In na povrchu Si(100) s atomárním rozlišením (vlevo), porovnání experimentálních a teoretických charakteristických silových křivek nad Sn a In atomem (uprostřed) a schematický obrázek teoretických výpočtů (vpravo).

1 Institute of Physics, Academy of Sciences of the Czech Republic, Cukrovarnická 10, 162 00, Prague, Czech Republic.
2 Department of Surface and Plasma Science, Charles University, V Holešovičkách 2, 180 00, Prague, Czech Republic.

Copyright © 2008-2010, Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.