Fyzikální ústav Akademie věd ČR

Depozice tenkých perovskitových vrstev v nízkotlakých systémech

V nízkotlakém UHV plazmatickém systému s dutou katodou a plazmatickým kanálem provádíme v současné době experimenty s depozicí tenkých feroelektrických vrstev BaxSr1-xTiO3 (BSTO) zejména na křemíkové substráty pro mikrovlnné aplikace.
K přípravě tenkých vrstev v prostředí ultra vysokého vakua (UHV) využíváme výboj v duté katodě stabilizovaný proudem pracovního plynu (nejčastěji Ar a O2). Tímto způsobem jsme v minulosti vytvořili vrstvy např.:
  • tribologické vrstvy: TiN, TiO2, Cu3N, CNx
  • vrstvy: LiCoO2, LiMn2O4 jako katody v Li-ion mikrobateriích
  • feroelektrické vrstvy: PbZrxTi1-xO3
  • dielektrické vrstvy: Li1-xZnxO
  • piezoelektrické vrstvy: ZnO kdy osa krystalu 'c' je kolmá k substrátu
  • polovodičové vrstvy na sluneční kolektory: amorfní Si:H a amorfní SiGe:H
Vzhledem k faktu, že výbojové plazma je značně neizotermické (Teplota neutrálního plynu jen mírně převyšuje pokojovou teplotu zatímco teplota elektronů dosahuje až 100 000K.) nedochází při depozici k teplotní destrukci citlivých substrátů a proto můžeme touto cestou provádět depozici nejen na kovové a teplotně odolné substráty, ale i na plastové materiály. Přímo při depozici pak provádíme sondovou diagnostiku a optickou diagnostiku pomocí optické emisní spektrometrie. Na základě znalosti odpovídajících parametrů plazmatu jsme tak schopni zajistit reprodukovatelnost jednotlivých depozičních procesů i s požadovanými parametry deponované vrstvy.

UHV systém pro depozici tenkých vrstev.


Pracovní tým:
Mgr. Zdeněk Hubička, Ph.D
Mgr. Martin Čada, Ph.D
RNDr. Jiří Olejníček, Ph.D
Ing. Štěpán Kment
RNDr. Vítězslav Straňák, Ph.D
RNDr. Lubomír Jastrabík, CSc.
Mgr. Olexander Churpita

Copyright © 2008-2014, Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.