Pulsní laserová depozice (PLD) je velmi dobře zavedená metoda pro přípravu tenkých vrstev, která však
dosud nebyla realizována s laserem pracujícím v extrémně ultrafialovém (XUV) spektrálním oboru. Interakce XUV záření s hmotou vykazuje řadu rysů, které ji výrazně odlišují od působení záření v ultrafialové, viditelné a infračervené oblasti. Fotony XUV záření produkované repetičním kapilárním laserem o energii 26,4 eV jsou v materiálu pohlcovány téměř výhradně fotoefektem a šířka zakázaného pásu materiálu nemá na absorpci XUV záření v pevné látce zásadní vliv. Jedná se o zcela unikátní využití XUV laseru pro PLD přípravu tenkých vrstev materiálů se zanedbatelnou lineární absorpci ve UV-Vis-NIR spektrálních oblastech, jakými jsou např. iontové krystaly LiF, CaF2, MgF2.
Součástí projektu je komplexní studium XUV laserového plazmatu metodami optické a hmotnostní
spektroskopie a matematické modelování plazmatu. Připravené vrstvy budou podrobeny komplexní
analýze struktury, optických vlastností a fluorescence.
