Laboratoř nanotechnologie

  • Výroba  nanostruktur elektronovou (EBL) a iontovou  litografií (focused ion beam - FIB), včetně přípravy tenkých vrstev rotačním nanášením.

  • Charakterizace nanostruktur a zobrazování vodivých i nevodivých vzorků pomocí elektronové mikroskopie (SEM).

 
Laboratoř nanotechnologie      Laboratoř nanotechnologie


Vybavení:

  1. Raith e_LiNE plus: Elektronový litograf (EBL) a mikroskop (SEM) umožňující zápis nanostruktur s rozlišením lepším než 10 nm (do HSQ, popř. 20 nm do PMMA); stolek litografu s laserově-interferometrickým odečítáním polohy umožňuje sesazovat zápisová pole s přesností ~30 nm; detektory sekundárních (Everhart-Thornley, InLens) i zpětně odražených (BSE) elektronů.
  2. FEI Versa3D DualBeam: Stanice kombinující elektronový a iontový sloupec umožňující řádkovací elektronovou mikroskopii (SEM) s rozlišením až k 1 nm a umožňující práci ve vysokém i nízkém vakuu (vhodné pro nevodivé vzorky). Iontový sloupec umožňuje jak přímý zápis 3D nanostruktur do různých materiálů (kovy, skla, polymery, atd.), tak iontovou mikroskopii (SIM). 
  3. Laurell WS-650: Sestava pro rotační nanášení tenkých vrstev (spin-coater).

Kontaktujte nás

Datová schránka: m54nucy

IČ: 67985882
DIČ: CZ67985882

Sledujte nás

LinkedInFacebook