Výroba nanostruktur elektronovou (EBL) a iontovou litografií (focused ion beam - FIB), včetně přípravy tenkých vrstev rotačním nanášením.
Charakterizace nanostruktur a zobrazování vodivých i nevodivých vzorků pomocí elektronové mikroskopie (SEM).
Vybavení:
Raith e_LiNE plus: Elektronový litograf (EBL) a mikroskop (SEM) umožňující zápis nanostruktur s rozlišením lepším než 10 nm (do HSQ, popř. 20 nm do PMMA); stolek litografu s laserově-interferometrickým odečítáním polohy umožňuje sesazovat zápisová pole s přesností ~30 nm; detektory sekundárních (Everhart-Thornley, InLens) i zpětně odražených (BSE) elektronů.
FEI Versa3D DualBeam: Stanice kombinující elektronový a iontový sloupec umožňující řádkovací elektronovou mikroskopii (SEM) s rozlišením až k 1 nm a umožňující práci ve vysokém i nízkém vakuu (vhodné pro nevodivé vzorky). Iontový sloupec umožňuje jak přímý zápis 3D nanostruktur do různých materiálů (kovy, skla, polymery, atd.), tak iontovou mikroskopii (SIM).
Laurell WS-650: Sestava pro rotační nanášení tenkých vrstev (spin-coater).
