Fyzikální ústav Akademie věd ČR

Oddělení nízkoteplotního plazmatu

Vedoucí

Linka: 2995, 2415, 2456
Email: hubickaatfzu [dot] cz
Místo: S
Místnost: O 218, O 330, 329

Sekretářka

Linka: 2139, 2138, 2977
Email: pospis@fzu.cz
Místo: S
Místnost: O 317, O 317, O 306

Činnost

Oddělení nízkoteplotního plazmatu se zabývá zejména
••• přípravou tenkých vrstev plazmo-chemickými metodami a
••• vývojem technologických postupů vedoucích k optimálnímu růstu studovaných vrstev.

Kromě klasického magnetronového naprašování jsou využívány jak nízkotlaké procesy (zejména výboj v duté katodě) tak vysokotlaké procesy pracující za atmosférického tlaku (např. bariérový pochodňový výboj).

Samozřejmostí je detailní diagnostika technologického plazmatu prováděná při většině experimentů, která umožňuje vysokou reprodukovatelnost depozičních procesů.


V současné sobě jsme aktivními spoluřešiteli mezinárodního projektu Hippocamp (High-power Impulse Plasma Process Operations for the Creation of Advanced Metallic Parts), který je zaměřen na vývoj nových technologických procesů pro výrobu nanokompozitů za účelem zlepšení funkčních vlastností konstrukčních dílů např. pro automobilový či letecký průmysl. Spolu s námi se na řešení projektu podílí celkem 10 týmů z Finska, Švédska, České republiky, Itálie, Německa a Španělska. Tento projekt je financován Evropskou komisí v rámci programu FP 7.

Copyright © 2008-2014, Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.