Elektronová litografie

000102030405060708
101112131415161718
 

Skupina se zabývá výzkumem technologie mikrolitografie pomocí elektronového litografu. Její činnost je zaměřena zejména na velkoplošné mikrostruktury pro difrakční optické elementy pro formování laserového svazku, na submikronmetrové difrakční holografické struktury pro průmyslové aplikace holografie a na struktury v tenkých vrstvách kovů a dielektrik na křemíkových podložkách pro biosenzory a vodivostní chemické senzory. Nezbytnou součástí tohoto výzkumu je řešení off-line a on-line software pro řízení expozice při zahrnutí problematiky zpracovávání velkého objemu dat, omezení projevu rozptylových jevů při expozici elektronovým svazkem a omezení vlivu rozměrového zkreslení vlivem optických vad zobrazovací soustavy litografu a vlivem teplotních driftů. Součástí řešení je i modelování a simulace pro optimalizace parametrů vytvářených struktur a pro usnadnění jejich návrhu.

Projekty

Členové skupiny participují na řešení těchto výzkumných projektů (k 1.1.2017):               

  • ALISI - Centrum pokročilých diagnostických metod a technologií - NPU
    (MŠMT — LO1212)
  • Platforma pokročilých mikroskopických a spektroskopických technik pro nano a mikrotechnologie
    (TA ČR — TE01020233)
  • Mikro a nano optika pro řízené směrování světla z LED zdrojů
    (MPO — FV10618)
  • Optovláknové senzory pro měření v jaderných elektrárnách při nadprojektových haváriích
    (MV ČR — VI20172020099)
  • Komercializace výsledků výzkumu realizovaných v Ústavu přístrojové techniky AV ČR, v. v. i.
    (TA ČR — TG03010046)
  • Elektronová mikroskopie
    (TA ČR — TE01020118)

Oblasti výzkumu

Nabízené technologie

Dokumenty PDF ke stažení

Videoprezentace skupiny EBL

Externí odkazy


Skupina EBL okolo elektronového litografu Vistec (Raith) EBPG5000+ES v čistých laboratořích ALISI.

ÚPT, skupina EBL