Fyzikální ústav Akademie věd ČR

Materiály pro nanosystémy a biorozhraní

Plasma Enhanced Linear Microwave Chemical Vapour Depostion system (PELMWCVD)

Tento unikátní reaktorový systém umožňuje deponovat nanodiamantové vrstvy vysoké kvality na velké plochy při nízké teplotě (~150°C). Schopnost vytvářet vrstvy při nízkých teplotách rozširuje škálu možných substrátů, například na substráty na bázi organických látek, což by u standardního PECVD systému nebylo možné. Tato nová škála nízoteplotních substrátů má důležité aplikace v medicíně.

Plasma Enhanced Microwave Chemical Vapour Depostion system (PEMWCVD)

Tento komerčně dostupný 1,5kW CVD reaktor je používán pro růst vysoce kvalitních diamantových vrstev. Reaktor je schopný vytvářet širokou škálu nanodiamantových, polykrystalických a monokrystalických diamantových vrstev na množství různých substrátů za použití řady procesních plynů, které umožňuji specifickou dopaci.

UHV Hollow Cathode Plasma Jet

Tato původně navržená zkonstruovaná UHV aparatura s výbojem duté katody se používá k produkci nanostrukturových magnetických vrstev. Aparatura byla s úspěchem používána pro depozici speciálních magnetických vrstev založených na 3d kovech. Tyto magnetické nanostruktorové kompozitní vrstvy maji uplatnění v mikroinducerech a transformátorech pro GHz komunikační zařízení.

Scanning Probe Microscopy

Scanning Probe Microscopy (SPM, mikroskopje skenující sondou) výzkumníkům umožňuje znázornit povrch v nanometrovém měřítku. SPM používá místo světla nebo paprsku elektronů drobnou sondu, která se pohybuje nad povrchem. Použití těchto sond umožňuje dosáhnout až atomárních rozlišení. SPM je obecný pojem, který označuje techniky, které používají sondu pro skenovaní povrchu a k měření některých vlastností povrchu. SPM techniky požívané v rámci skupiny MNB jsou Scanning Tunnelling Microscopy (řádkovací tunelová mikroskopie) a Atomic Force Microscopy (mikroskopie atomárních sil). Použitím těchto technik je možné nejen získat 3D mapu výškového reliéf, ale také ziskat další parametry materiálu, jako je vodivost v danném místě, hustota elektronových stavů, výstupní práce, ionizační poteniciál a elektronová afinita.

Copyright © 2008-2014, Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.