Vysoko-vakuová (HV) komora vybavena čtyřmi magnetrony
(terče o průměru 4 palce) pro přípravu multivrstvých struktur,
DC, pulzní DC nebo RF buzení magnetronů
in-situ spektrální reflektometrie a elipsometrie pro měření tloušťky a indexu lomu
Připravované materiály: Ag, Al, Ta, Pd, SiO2, Ta2O5, Al2O3 , Si3N4
HV komora pro magnetronové naprašování
čerpaná olejovou difuzní vývěvou
magnetronový terč o průměru 10 cm
DC, pulzní DC nebo RF buzení magnetronů - výkon do 3 kW
Připravované materiály: Al, Al2O3 , NiTi, NiTiOx, NiTiNx, Ti
Plasma enhanced chemical vapor deposition and ion reactive etching
