Magnetronové naprašování

Vysoko-vakuová (HV) komora vybavena čtyřmi magnetrony

(terče o průměru 4 palce) pro přípravu multivrstvých struktur, DC, pulzní DC nebo RF buzení magnetronů
in-situ spektrální reflektometrie a elipsometrie pro měření tloušťky a indexu lomu
Připravované materiály: Ag, Al, Ta, Pd, SiO2, Ta2O5, Al2O3 , Si3N4

HV komora pro magnetronové naprašování

čerpaná olejovou difuzní vývěvou
magnetronový terč o průměru 10 cm
DC, pulzní DC nebo RF buzení magnetronů - výkon do 3 kW
Připravované materiály: Al, Al2O3 , NiTi, NiTiOx, NiTiNx, Ti

Plasma enhanced chemical vapor deposition and ion reactive etching