V poslední době bylo velké úsilí zaměřeno na hledání vhodných polovodivých materiálů pro proces fotoelektrochemického (PEC) rozkladu vody na kyslík a vodík (tzv. „water splitting“), kte-ré by plnily funkci fotoelektrody (anody) v PEC cele. Mezi nejslibnější materiály pro tyto aplika-ce patří oxid titaničitý (TiO2), oxid železitý (α-Fe2O3) a oxid wolframový (WO3). Pozornost práce je soustředěna na přípravu a studium vlastností vrstev WO3 a Fe2O3, které byly připraveny pulz-ním magnetronovým naprašováním. Jedná se o ekologicky šetrnou metodu depozice, při které není použito žádného nebezpečného materiálu, a v průběhu depozice se neuvolňují žádné to-xické látky. Mezi další výhody PVD (Physical Vapour Deposition) patří vysoká mechanická odol-nost vrstev, schopnost vytvářet různorodé kombinace vícevrstvých struktur, přesně reproduko-vatelná tloušťka vrstev (i v případě velmi tenkých povlaků) a vysoká reprodukovatelnost celého depozičního procesu a dosažených výsledků. V rámci disertační práce byly hledány i alternativ-ní metody pro přípravu výše zmíněných materiálů, které by byly oproti plazmatickým depozicím jednodušší, a to jak z hlediska nároků na sofistikovanost aparatury použité pro přípravu vrstev, tak s ohledem na rychlost a cenu při současném zachování kvality vrstev připravených pomocí PVD.