Elektronová litografie

Skupina elektronové litografie (EBL) se zabývá výzkumem v oblasti mikrolitografických technologií s využitím elektronového litografu.

Činnost skupiny EBL je zaměřena zejména na velkoplošné mikrostruktury pro difrakční optické elementy pro formování laserového svazku, na submikronmetrové difrakční holografické struktury pro průmyslové aplikace holografie a na struktury v tenkých vrstvách kovů a dielektrik na křemíkových podložkách pro biosenzory a vodivostní chemické senzory. Nezbytnou součástí tohoto výzkumu je řešení off-line a on-line software pro řízení expozice při zahrnutí problematiky zpracovávání velkého objemu dat, omezení projevu rozptylových jevů při expozici elektronovým svazkem a omezení vlivu rozměrového zkreslení vlivem optických vad zobrazovací soustavy litografu a vlivem teplotních driftů. Součástí řešení je i modelování a simulace pro optimalizace parametrů vytvářených struktur a pro usnadnění jejich návrhu.

Skupina elektronové litografie

V Ý Z K U M   A   V Ý V O J

Oblasti výzkumu:

• Elektronové litografy
  
• Mikrolitografie
  
• Planární nanostruktury
• Průmyslová holografie

A P L I K A Č N Í   S F É R A

Nabízené technologie:

• Technologie elektronové litografie
• Technologie difrakčních prvků

Projekty

Členové skupiny participují na řešení těchto výzkumných projektů (k 1. 1. 2018):               

• ALISI - Centrum pokročilých diagnostických metod a technologií - NPU
  (MŠMT — LO1212)
• Platforma pokročilých mikroskopických a spektroskopických technik pro nano a mikrotechnologie
  (TA ČR — TE01020233)
• Mikro a nano optika pro řízené směrování světla z LED zdrojů
  (MPO — FV10618)
• Optovláknové senzory pro měření v jaderných elektrárnách při nadprojektových haváriích
  (MV ČR — VI20172020099)
• Komercializace výsledků výzkumu realizovaných v Ústavu přístrojové techniky AV ČR, v. v. i.
  (TA ČR — TG03010046)
• Elektronová mikroskopie
  (TA ČR — TE01020118)

Oblasti výzkumu — V Ý Z K U M   A   V Ý V O J

• Elektronové litografy
  — zařízení pro záznam obrazců do tenké vrstvy elektronového rezistu
• Mikrolitografie
  — technologické postupy pro přípravu planárních struktur
• Planární nanostruktury
  — příprava tenkých mikro a nano struktur pro rozmanité aplikace
• Průmyslová holografie
  — vývoj difrakčních a holografických prvků pomocí zápisu elektronovým svazkem

Nabízené technologie — A P L I K A Č N Í   S F É R A

• Technologie elektronové litografie
  
  • Technologie kalibrovaných rozměrových normálů pro mikroskopii
  • Technologie přípravků pro testování rozlišení optických mikroskopů a soustav
  • Technologie fotošablon pro speciální použití
• Technolgie difrakčních prvků
  
  • Technologie difrakčních šablon pro expozici vláknových mřížek
  • Technologie difraktivních opticky variabilních obrazových zařízení
  • Technologie planárních zonálních struktur

Publikace

Publikační výstupy skupiny EBL v letech 2010–2016.

Aktuální výstupy v roce 2017 [k 2. 11. 2017]:

• Krátký, S. et al. Combined e-beam lithography using different energies. Microelectronic Engineering, 5 June 2017, pp. 30–34. DOI.
• Horáček, M. a kol. Difrakční opticky variabilní obrazové zařízení. Užitný vzor 30627. ASEP.
• Kolařík, V. a kol. Fylotaktické difrakční obrazové zařízení. Funkční vzorek APL–2017–01. ASEP.
• Horáček, M. et al. Phyllotactic Arrangements of Optical Elements. SPIE Optics & Optoelectronics. Proc’ s of the Holography: Advances and Modern Trends V Conference. 2017. DOI.
• Knápek, A. et al. Field emission from the surface of highly ordered pyrolytic graphite. Applied Surface Science, 15 Feb 2017, pp. 157–161. DOI.
• Knápek, A. et al. Programmable set-up for electrochemical preparation of STM tips and ultra-sharp field emission cathodes. Microelectronic Engineering, Volume 173, 5 April 2017, Pages 42-47, ISSN 0167-9317. DOI.
• Krátký, S. et al. Lift–off technology for thick metallic microstructures. Proc's of Metal 2017 Conf., 24–26 May 2017, Brno.
• Horáček, M., Kolařík, V.,  Opticky variabilní obrazové zařízení a způsob jeho přípravy. Patent 306956. ASEP.
• Chlumská, J. a kol. Ovrstvení Si desek tlustou vrstvou rezistu a kontrola vrstvy. Ověřená technologie APL–2017–02. ASEP.
• Horáček, M. et al. Deterministicky aperiodické obrazové zařízení. Sborník konference Laser57.

Dokumenty PDF ke stažení

• Profilové listy skupiny EBL, anglická verze, 4 strany:
  • edice 2017, 678 kB;
  • edice 2013, 1,32 MB.
• Průvodce aplikačními možnostmi ÚPT:
  • edice 2012, 76 stran, 18,3 MB;
    
  • edice 2010, 68 stran 15 MB.
    
• Handbook of the application capacities of the ISI:
  • edice 2013, 76 stran, 18,7 MB.
• Monografie:
  • F. Matějka, Praktická elektronová litografie, 2013.

Videoprezentace skupiny EBL

Externí odkazy

• Heslo Elektronová litografie na Wikipedii.
• Archivní web stránky EBL: 2016, 2012, 2009, 2003 (anglicky).
• Slza (kapka).