Skupina plazmatické depozice tenkých vrstev

Skupina se zabývá výzkumem plazmatických depozičních metod určených pro přípravu různých typů tenkých vrstev, vícevrstvých struktur a nanostruktur. Jedná se o nové PVD a PECVD plazmatické metody jako je vícetryskový systém pulzních dutých katod pro rychlé reaktivní naprašování, pulzní reaktivní HIPIMS magnetronové systémy a MW vícetryskový PECVD plazmový systém s povrchovou vlnou. Zkoumány jsou tenké vrstvy na bázi polovodivých oxidů (Fe2O3, TiO2, WO3) a polovodivých sulfidů (FeS2, MoS2, atd) určených pro fotokatalytické aplikace (solární rozklad vody atd). Vedoucím skupiny plazmatické depozice tenkých vrstev je RNDr. Jiří Olejníček, Ph.D.