Nanokrystalické borem dopované diamantové vrstvy (BDD) chrání podkladové křemíkové fotoelektrody (Si) v širokém rozmezí pH (1–14) ve vodných roztocích elektrolytů. Si|BDD fotoelektrody nevykazují žádné známky zhoršení charakteristik po kontinuálním zpracování v neutrálních, kyselých a bazických elektrolytech. Depozice katalyzátoru vývoje kyslíku na vrstvu BDD významně snižuje přepětí pro oxidaci vody.
Schematické znázornění fotoelektrody založené na bórem dopované diamantové elektrodě a vestavěném pn-spoji Si solárního článku pro oxidaci a redukci vody. PV komponenta (np-Si) je zodpovědná za absorpci dopadajícího světla a oddělení náboje přes pn-spoj, zatímco k vývoji kyslíku dochází na rozhraní diamantové elektrody dopované bórem / elektrolytu, vodík se vyvíjí na externě zapojené kovové katodě.
Kontaktní osoba: Petr Ashcheulov, +420 266 052 544, ashcheulov [at] fzu [dot] cz
Spolupracující subjekt:
- Fakulta biomedicínského inženýrství, ČVUT v Praze, Nám. Sítna 3105, 272 01 Kladno, Česká republika
- Fill Factory S.r.o., Televizní 2618, 756 61 Rožnov pod Radhoštěm, Česká republika
- Laboratory for Molecular Engineering of Optoelectronic Nanomaterials, Ecole Polytechnique Fédérale de Lausanne (EPFL), Station 6, Lausanne, 1015, Switzerland
- Ústav fyzikální chemie J. Heyrovského, Akademie věd České republiky, Dolejškova 3, 182 23 Praha 8, Česká republika
- Nové technologie - výzkumné centrum, Západočeská univerzita v Plzni, Univerzitní 8, 301 00 Plzeň, Česká republika
- Centrum výzkumu Řež s. r. o., Hlavní 130, 250 68 Husinec-Řež, Česká republika