Laboratory of Tandetron (LT)
Kompaktní víceúčelový elektrostatický tandemový urychlovač Tandetron 4130 MC, vyrobený nizozemskou společností High Voltage Engineering Europa B.V. (HVEE), byl v ÚJF instalován v listopadu 2005 a od začátku roku 2006 je zde plně funkční. Hlavním účelem Tandetronu v ÚJF je produkce urychlených iontových svazků s energiemi v rozsahu od 400 keV do 24 MeV téměř všech prvků periodické tabulky pro analýzu stopových prvků pomocí jaderných analytických metod. Tandetron poskytuje iontové proudy středních intenzit (do desítek mA) s terminálovým napětím pohybujícím se od 200 kV do 3 MV.
Hlavním laboratorním příslušenstvím jsou zařízení pro charakterizaci materiálu pomocí standardních jaderných analytických metod (RBS, RBS-channeling, ERDA, ERDA-TOF, PIXE, PIGE a iontová mikrosonda s 1μm laterálním rozlišením) a pro vysokoenergetickou implantaci. V laboratoři je také několik dalších zařízení, určených převážně pro přípravu mikro- a nanostruktur s použitím různých depozičních metod a pro jejich charakterizaci doplňkovými metodami (např. AFM, CVD a magnetronové naprašování tenkých vrstev, optická charakterizace s využitím laserových zdrojů v rozsahu vlnových délek od 380 do 1000 nm, optická elipsometrie a povrchová modifikace materiálů s využitím laseru). Kvalifikace personálu a parametry experimentálních zařízení laboratoře jsou plně srovnatelné s obdobnými světovými laboratořemi. Díky tomuto vybavení je laboratoř v České republice ojedinělá a je schopna vyhovět všem specifickým požadavkům českých i zahraničních výzkumných organizací.
Materiálový výzkum tradičně patří k progresivním technologickým oblastem. Jeho produkty jsou používány v každodenním životě po celém světě. Vzhledem k neustálé miniaturizaci jsou však základní struktury materiálů těchto produktů již daleko za analytickými limity většiny konvenčních metod. Jaderné analytické metody je ovšem analyzovat mohou, protože používají sondy podobných nebo mnohem menších rozměrů (částice, záření) případně poskytují rozlišení v závislosti na typu metody v nanometrech až mikrometrech, dále nabízejí velmi nízké detekční limity pro sledování stopových prvků.
Další zařízení nabízená LT
Depoziční box – vybaven dvěma magnetronovými zdroji, použitelnými pro nanášení kovových vrstev, včetně bimetalových (Cu, Al, Au ...). V depozičním boxu mohou být nanášeny ploché, homogenní, čisté kovové vrstvy o tloušťkách v rozmezí od několika desítek nm do několika mikrometrů.
CVD – napařování tenkých vodivých vrstev grafit, kovy aj.
Optická elipsometrie pro charakterizaci tloušťek a optických vlastností vrstev.
Laserové zdroje pro optickou charakterizaci a modifikace povrchů materiálů.
INTEGRA - skenovací sondová mikroskopie.
STM / AFM (kontaktní + polokontaktní + bezkontaktní) / mikroskopie laterální napětí / fázové zobrazování / modulace napětí/ zobrazování adhezní síly / magnetická silové mikroskopie / elektrostatická silová mikroskopie / skenovací kapacitní mikroskopie / mikroskopie Kelvinovy sondy / šíření odporu.
Video
