Návrh a výroba pokročilých difraktivních optických elementů a jejich aplikace do průmyslu

Hlavní cíle projektu jsou následující: 1. Realizace záměrného kříže pomocí difrakčního amplitudového nebo fázového elementu pro oblast viditelného spektra. Návrh difrakčních struktur pro jednu nebo více pracovních vlnových délek a jejich výroba technikami elektronové litografie. Optická a strukturní kontrola vyrobených prvků. 2. Vývoj a realizace skleněné matrice pro opakovanou výrobou záměrných křížů se sub-mikrometrovými laterálními i výškovými rozměry pro techniku optické NanoImprint litografie. Návrh stabilní formy pro vtisk difrakční struktury do fotoresistu. Strukturní kontrola profilu, optická a kvalitativní kontrola vyrobených struktur. 3. Vývoj a realizace difrakčního optického elementu pro generaci besselovských svazků s požadovaným potlačením distribuce energie do vedlejších minim (principiálně odpovídá Axikonu s důrazem na potlačení postranních minim). Návrh a výpočet difrakčních struktur a jejich výroba technikou elektronové litografie. Optická a strukturní kontrola vyrobených prvků. 4. Vývoj a realizace difrakčních optických elementů pro transformaci a homogenizaci Gaussovského laserového svazku. Jedná se jak o proces transformace na TopHat homogenizovaný svazek tak o více-násobnou distribuci svazku (beam-splitting) do plošné maticové struktury svazků. Návrh a výpočet difrakčních struktur a jejich výroba technikou elektronové litografie. Optická a strukturní kontrola vyrobených prvků.