Oddělení nízkoteplotního plazmatu

Oddělení nízkoteplotního plazmatu se zaměřuje na základní a aplikovaný výzkum různých druhů nízkoteplotního plazmatu, jeho interakce s pevnou fází a jeho aplikace pro výzkum depozice různých typů vrstev a tenkovrstvých struktur. Tento výzkum zahrnuje charakterizaci nízkoteplotního plazmatu pomocí komplexních diagnostických metod.
Na pracovišti byly realizovány také nové originální diagnostické metody nízkoteplotního plazmatu, které jsou vhodné pro implementaci do průmyslových technologických procesů využívající nízkoteplotní plazma.

Z hlediska typu tenkých vrstev se zaměřujeme zejména na polovodivé vrstvy s aplikacemi ve fotoelektrochemii, katalýze, fotonice, optických ochranných strukturách, senzorech atd. Dále se zaměřujeme na tvrdé povlaky ve speciálních případech 3D substrátů, kde se jedná většinou o nitridy nebo karbidy různých kovů případně jejich slitiny.

Z hlediska typů vlastních plazmatických procesů využíváme různé hybridní plazmatické zdroje. To jsou různé druhy reaktivních impulzních magnetronů HiPIMS například kombinovaných s induktivně vázaným vysokofrekvenčním výbojem pracující s elektronovou cyklotronovou vlnou ve vlnové rezonanci (ECWR), případně různé modifikace systémů využívající výbojů v dutých katodách s formací plazmatických proudících kanálů.

Pro některé speciální aplikace používáme metodu plazmového ALD vlastní konstrukce, kde je plazma buzeno mikrovlnným surfatronem ve speciálním uspořádání nebo zdrojem ECWR.