A method for measuring low pressure deposition plasma using wave resonance of electrone-cyclotrone wave and device for realization of this method
Číslo
Patent CZ 306799 B6
Datum udělení
Dovětek
Způsob měření depozičního nízkotlakého plazmatu s využitím vlnové rezonance elektronové cyklotronové vlny a zařízení k provádění tohoto způsobu