V tomto projektu budou konsolidovány a integrovány technologické možnosti pro 2 nm rozlišení v litografických procesech v polovodičové technologii. Cílem je dosáhnout požadavků na exponovanou plochu substrátu a cenu procesů pro logické a paměťové obvody. Je očekáván obrovský impakt, protože tato práce umožní polovodičovému průmyslu sledovat Moorův zákon při splnění požadavků na výkonnost, exponovanou plochu a cenu v 2 nm technologii. Projekt také pomůže expanzi evropských technologických kapacit v tomto oboru, která je kritická pro digitalizaci a řešení narodních , evropských a globálních sociálních výzev, a posílí konsorcium předních evropských firem a institucí aktivních v tomto oboru. Projekt je také kriticky důležitý k dalšímu posílení vedoucí technologické pozice tohoto konsorcia v polovodičové 2 nm technologii ve světovém kontextu a ve vysoce kompetetivním prostředí.
Tento projekt je financován EU.
