Ing. Tomáš Hubáček, Ph.D.

Hlavní oblastí mého výzkumu ve FZU jsou nitridové polovodiče. Zabývám se materiály, jako jsou GaN, InGaN nebo AlGaN. Náplní mé vědecké práce je především příprava epitaxních vrstev pomocí organokovové epitaxe z plynné fáze (MOVPE). Epitaxní struktury na bázi nitridových polovodičů našli uplatnění například v modrých světlo emitujících diodách, které jsou každodenní součástí našich životů. V rámci své vědecké práce se zabývám novým aplikačním směrem těchto struktur, kterým je scintilační detektor. Výhodou našich InGaN/GaN epitaxních struktur oproti běžně používaným scintilačním materiálům je větší účinnost a rychlejší dosvit. Další oblastí, kterou se zabývá naše skupina, jsou AlGaN/GaN struktury využitelné ve vysoce výkonných tranzistorech (HEMT – high electron mobility transistor).
ORCID 0000-0003-0725-484X
Researchgate Tomas_Hubacek