Tým se zabývá výzkumem technologie mikrolitografie s využitím zápisu pomocí elektronového litografu. Naše činnost je zaměřena na přípravu struktur v tenkých vrstvách kovů a dielektrik na křemíkových podložkách pro různé typy snímačů. Pro optické aplikace vytváříme velkoplošné mikrostruktury pro tvarování laserového svazku a difrakční struktury pro aplikace v průmyslové holografii.

Nezbytnou součástí výzkumu je řešení software pro řízení expozice s ohledem na zpracovávání velkého objemu dat. Součástí řešení je i modelování a simulace pro optimalizaci parametrů vytvářených struktur a pro usnadnění jejich návrhu.

Elektronový litograf můžeme jednoduše charakterizovat jako zápisové zařízení s velmi vysokým rozlišením. (Pro srovnání můžeme říci, že má rozlišení asi tisíckrát lepší než kvalitní laserová tiskárna.) Jednou ze zajímavých oblastí aplikace jsou struktury pro tvarování světelného svazku. Ačkoliv vlastní jemnou strukturu nelze okem rozlišit, její projev při nasvícení světelným paprskem je dobře pozorovatelný.

Další model ukazuje mřížku se stejnou hustotou čar jako model na prvním obrázku. V tomto případě je však orientace čar kolmá ve srovnání s prvním případem. Model ukazuje, že dopadající světlo se ohýbá ve stejné míře. Směr odklonu je však kolmý vzhledem ke směru odklonu v prvním případě. Směr odklonění světla tedy souvisí s orientací čar difrakční mřížky. Z modelu je také patrné, že směr odklonění světla je kolmý na směr jednotlivých vrypů.