Tým se zabývá výzkumem technologie mikrolitografie s využitím zápisu pomocí elektronového litografu. Naše činnost je zaměřena na přípravu struktur v tenkých vrstvách kovů a dielektrik na křemíkových podložkách pro různé typy snímačů. Pro optické aplikace vytváříme velkoplošné mikrostruktury pro tvarování laserového svazku a difrakční struktury pro aplikace v průmyslové holografii.

Nezbytnou součástí výzkumu je řešení software pro řízení expozice s ohledem na zpracovávání velkého objemu dat. Součástí řešení je i modelování a simulace pro optimalizaci parametrů vytvářených struktur a pro usnadnění jejich návrhu.

Elektronový litograf můžeme jednoduše charakterizovat jako zápisové zařízení s velmi vysokým rozlišením. (Pro srovnání můžeme říci, že má rozlišení asi tisíckrát lepší než kvalitní laserová tiskárna.) Jednou ze zajímavých oblastí aplikace jsou struktury pro tvarování světelného svazku. Ačkoliv vlastní jemnou strukturu nelze okem rozlišit, její projev při nasvícení světelným paprskem je dobře pozorovatelný.

Jiný příklad obecné struktury, jejíž uspořádání je odlišné od předchozího případu. Lidský zrak není schopen v tomto uspořádání přímo rozeznat zaznamenanou informaci. Difrakční obraz je však v obou případech zcela zřetelný a rozlišitelný. Zbývá dodat, že struktury tohoto typu se již dříve připravovaly pomocí interferenční holografie. Výsledná struktura holografického záznamu se nazývá hologram. Jedna z jeho možných definic zní: hologram je záznam prostorových frekvencí obrazu (scény). V našem případě vzniká struktura pomocí expozice v elektronovém litografu bez použití světla. Pro odlišení od interferenčních hologramů tedy používáme označení syntetický hologram.