Tým se zabývá výzkumem technologie mikrolitografie s využitím zápisu pomocí elektronového litografu. Naše činnost je zaměřena na přípravu struktur v tenkých vrstvách kovů a dielektrik na křemíkových podložkách pro různé typy snímačů. Pro optické aplikace vytváříme velkoplošné mikrostruktury pro tvarování laserového svazku a difrakční struktury pro aplikace v průmyslové holografii.

Nezbytnou součástí výzkumu je řešení software pro řízení expozice s ohledem na zpracovávání velkého objemu dat. Součástí řešení je i modelování a simulace pro optimalizaci parametrů vytvářených struktur a pro usnadnění jejich návrhu.

Elektronový litograf můžeme jednoduše charakterizovat jako zápisové zařízení s velmi vysokým rozlišením. (Pro srovnání můžeme říci, že má rozlišení asi tisíckrát lepší než kvalitní laserová tiskárna.) Jednou ze zajímavých oblastí aplikace jsou struktury pro tvarování světelného svazku. Ačkoliv vlastní jemnou strukturu nelze okem rozlišit, její projev při nasvícení světelným paprskem je dobře pozorovatelný.

Tento model ukazuje případ, kdy je hustota struktury (rozteč mezi jednotlivými vrypy mřížky) menší než v předchozím případě. Světelný paprsek se ohýbá obdobným způsobem, ale míra jeho odklonění je menší. Do stejné oblasti je tedy odkloněno větší množství jednotlivých difrakčních maxim. Soubor jednotlivých difrakčních maxim nazýváme difrakční obraz struktury.