Tým se zabývá výzkumem technologie mikrolitografie s využitím zápisu pomocí elektronového litografu. Naše činnost je zaměřena na přípravu struktur v tenkých vrstvách kovů a dielektrik na křemíkových podložkách pro různé typy snímačů. Pro optické aplikace vytváříme velkoplošné mikrostruktury pro tvarování laserového svazku a difrakční struktury pro aplikace v průmyslové holografii.

Nezbytnou součástí výzkumu je řešení software pro řízení expozice s ohledem na zpracovávání velkého objemu dat. Součástí řešení je i modelování a simulace pro optimalizaci parametrů vytvářených struktur a pro usnadnění jejich návrhu.

Elektronový litograf můžeme jednoduše charakterizovat jako zápisové zařízení s velmi vysokým rozlišením. (Pro srovnání můžeme říci, že má rozlišení asi tisíckrát lepší než kvalitní laserová tiskárna.) Jednou ze zajímavých oblastí aplikace jsou struktury pro tvarování světelného svazku. Ačkoliv vlastní jemnou strukturu nelze okem rozlišit, její projev při nasvícení světelným paprskem je dobře pozorovatelný.

Při dopadu světelného paprsku na jemnou pravidelnou mřížku dochází k pozorovatelnému ohybu světla. Světlo (světelný svazek) se šíří nejen do směru daného prostým odrazem od roviny struktury, ale i do dalších směrů. Obrázek představuje prostorový model pokusu, kdy se světlo ohýbá na mřížce. Na obrázku je vlevo zdroj světla, dole difraktivní struktura (mřížka) a vpravo obraz světla po dopadu na stínítko. Rovnoběžný svazek světla vycházející ze zdroje dopadá na mřížku, na které se odráží a ohýbá do různých směrů. Světlé (červené) body na stínítku symbolizují zjednodušeně oblasti, ve kterých je intenzita světla největší. Tyto body nazýváme difrakční maxima (ohyb a difrakce je totéž).